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冠天玻璃瓶挥发成分及膨胀系数

发布时间:2017年04月24日 阅读:
      PVD法可在较低的温度下制备具有优异的性能的薄膜,而且所用的原料为固体,可制备金属,化合物的薄膜。PVD法有正空蒸镀,溅射成膜等等方法。玻璃瓶生产厂家把所谓真空蒸镀在10-2Pa以下的真空中加热固体物质使之蒸发并在基板上付着成膜,这是最基本的PVD法。徐州玻璃瓶厂把薄膜的形成的过程为蒸镀原料在蒸发源被加热,蒸镀原料的分子或原子向机板处飞行,分子或原子附着于洁净基板上并形成薄膜。
     由于蒸发物不同在蒸发源处的温度及真空度有所不同,玻璃瓶厂一般以物质蒸汽压为1Pa时加热的温度为参考点而真空度选择10-3Pa以下。分子或原子在到达基板前的飞行中最好不与残留的气体分子发生碰撞,从而可以保持蒸镀前其所具有的能量。玻璃瓶生产厂家在温度T时做热运动的分子与其它分子不发生碰撞前进的距离为平均自由程,一般使蒸镀的分子或原子与残留气体分子不发生碰撞的真空度应在10-2Pa以下。实际蒸镀中除了蒸发的原子或分子入射并附着与基板上,这种气体分子入射附着基板上的频率,玻璃瓶厂由此要制备不含或含量甚微残留气体为杂质的薄膜,蒸镀的真空应低一些好,实用的应在10-3Pa一以下。我们要求纯度高的薄膜应在10-7Pa以下,其中为蒸镀发源,与蒸发面积S相比,其开口面积S非常小,由此损失的分子若可以忽略的话,可以认为炉内的蒸汽压平衡。此时玻璃瓶生产厂家由开口处喷出的分子数仅受炉内温度影响,这一温度高低即可控制分子向外飞散的强度

 

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